Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Airton Ramos

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP R147c

Campinas, SP : [s.n.], 1991.

105 f. : il.

Orientador: Alaide P. Mammana

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Neste texto apresentamos nossos resultados da caracterização de filmes finos de silício amorfo hidrogenado (Si : H-a) obtidos pela técnica de "RF sputtering", usando um antigo sistema Varian que reconstruímos para este fim. As amostras foram depositadas sob diversas condições a fim de...

Abstract: In this text we present our results on the physical characterization of thin films of hidrogenated amorphous silicon (a-Si : H) obtained by RF sputtering, using an old Varian system that we have re-built for this purpose. The samples have been deposited on several conditions in order to...

Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Airton Ramos


										

Caracteristicas dos filmes finos de Si:H-a obtidos por pulverização catodica ("RF sputtering")

Airton Ramos

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