Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD

Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD

Hermes Antonio de Amorim

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP Am68c

Campinas, SP : [s.n.], 1995.

77f.

Orientador: Edmundo da Silva Braga

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Neste trabalho é apresentado um estudo sobre a obtenção de filmes finos de carbono por deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de RF. (RF-PECVD), com posterior caracterização dos mesmos através de diferentes técnicas. Inicialmente são apresentadas características...

Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD

Hermes Antonio de Amorim


										

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