Deposição e caracterização físico-química de filmes finos nanoestruturados (nanocompósitos) contendo Ti, C, N e O, Obtidos a partir de um precursor líquido (Ti(OC2H5)4)

Deposição e caracterização físico-química de filmes finos nanoestruturados (nanocompósitos) contendo Ti, C, N e O, Obtidos a partir de um precursor líquido (Ti(OC2H5)4)

Vinícius Gabriel Antunes

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP An89d

[Deposition and characterization of Ti, C, N and O nanocomposite thin films obtainded by liquid precursor (Ti(OC2H5)4)]

Campinas, SP : [s.n.], 2014.

66 f. : il.

Orientador: Fernando Alvarez

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Física Gleb Wataghin

Resumo: Os tratamentos de superfície a plasma são amplamente usados em diversas áreas de tecnologia, tais como: indústria metalmecânica, microeletrônica, plástico e medicina, para o crescimento de filmes finos, camadas protetoras em instrumentos e ferramentas de corte, funcionalização de superfícies...

Abstract: Plasma surface treatments are widely used in several technological areas (e.g., metallurgic industry, microelectronic, plastic industry, medicine) in order to obtain hard coatings on cutting tools and instruments, funtionalization of plastics and synthetic materials used in the textile...

Deposição e caracterização físico-química de filmes finos nanoestruturados (nanocompósitos) contendo Ti, C, N e O, Obtidos a partir de um precursor líquido (Ti(OC2H5)4)

Vinícius Gabriel Antunes


										

Deposição e caracterização físico-química de filmes finos nanoestruturados (nanocompósitos) contendo Ti, C, N e O, Obtidos a partir de um precursor líquido (Ti(OC2H5)4)

Vinícius Gabriel Antunes

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