Influência do modo de fotoativação e da distância da fonte fotoativadora na microdureza e resistência à tração diametral de compósitos a base de metacrilato e silorano
Bárbara Bruna Malta Neves Oliveira
TCC
Português
TCC/UNICAMP OL4i
Piracicaba, SP : [s.n.], 2013.
39 f. : il.
Orientadores: Maria Cecília Caldas Giorgi, Flávio Henrique Baggio Aguiar
Trabalho de Conclusão de Curso (graduação) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Odontologia de Piracicaba
Influência do modo de fotoativação e da distância da fonte fotoativadora na microdureza e resistência à tração diametral de compósitos a base de metacrilato e silorano
Bárbara Bruna Malta Neves Oliveira
Influência do modo de fotoativação e da distância da fonte fotoativadora na microdureza e resistência à tração diametral de compósitos a base de metacrilato e silorano
Bárbara Bruna Malta Neves Oliveira