Desenvolvimento de filmes finos de TiOx e ZnO para dispositivos ISFET e SAW

Desenvolvimento de filmes finos de TiOx e ZnO para dispositivos ISFET e SAW

Angélica Denardi de Barros

TESE

Português

T/UNICAMP B278d

[Development of thin titan in oxide and zinc oxide films for ISFET and SAW devices ]

Campinas, SP : [s.n.], 2013.

95 p. : il.

Orientador: José Alexandre Diniz

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação

Resumo: O objetivo deste trabalho é a obtenção e caracterização de filmes finos de óxido de titânio (TiOx) e de óxido de zinco (ZnO) para aplicações em sensores baseados em transistores de efeito de campo elétrico sensíveis a íons (Ion Sensitive Field Effect Transistor- ISFET) e de ondas acústicas...

Abstract: The aim of this work is to obtain and characterize thin titanium oxide (TiOx) films and zinc oxide (ZnO) films for applications in sensors based on ion sensitive field effect transistors (ISFET) and surface acoustic waves (SAW), respectively. In this way, two different types of sensors...

Desenvolvimento de filmes finos de TiOx e ZnO para dispositivos ISFET e SAW

Angélica Denardi de Barros


										

Desenvolvimento de filmes finos de TiOx e ZnO para dispositivos ISFET e SAW

Angélica Denardi de Barros

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