Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica

Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica

Marcelo Assaoka Hayashi

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP H321d

Campinas, SP : [s.n.], 1995.

51 f. : il.

Orientador: Lisandro Pavie Cardoso

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: Não informado

Abstract: Not informed.

Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica

Marcelo Assaoka Hayashi


										

Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica

Marcelo Assaoka Hayashi

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