Analise da oxidação termica de filmes de Au-Nb por espectroscopia de fotoeletrons de raios-X (XPS) e espectroscopia de eletrons Auger (AES)
DISSERTAÇÃO
Português
(Broch.)
T/UNICAMP P587a
Campinas, SP : [s.n.], 1992.
[77] f. : il.
(Publicação FEE)
Orientador: Vitor Baranauskas
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica
Resumo: O estudo de filmes de Nb e de seus óxidos deve-se sobretudo às suas aplicações em dispositivos e fios super-condutores. O Nb nativo oxida-se rapidamente no ar formando-se uma superfície rugosa de "dentes" de 'Nb IND. 2¿¿O IND. 5¿ , que é um dielétrico, o que degrada as propriedades do...
Resumo: O estudo de filmes de Nb e de seus óxidos deve-se sobretudo às suas aplicações em dispositivos e fios super-condutores. O Nb nativo oxida-se rapidamente no ar formando-se uma superfície rugosa de "dentes" de 'Nb IND. 2¿¿O IND. 5¿ , que é um dielétrico, o que degrada as propriedades do material para aplicações em supercondutividade. Neste trabalho estudamos a possibilidade da utilização de um filme passivamente superior de Au, com o objetivo de transformar a fase 'Nb IND. 2¿¿O IND. 5¿ em óxidos de menor estequiometria como o 'Nb IND. 2¿O e o NbO, que são supercondutores. As amostras foram recozidas em atmosfera ambiente na faixa de temperatura de 300-800 graus C e em tempos de 15-45 min. Através das técnicas de Espectroscopia de Fotoelétrons de Raios-x (XPS) e Espectroscopia de Elétrons Auger (AES) pode-se observar que o filme de Au atua como barreira à oxidação até a temperatura de 500 graus C, ocorrendo nestes processos a redistribuição de oxigênio no Nb. Até esta temperatura filme mantém sua estrutura de camadas. Em 800 graus C, ocorre o a ruptura de barreira e rápida oxidação do Nb, com ação da estrutura de camadas. A medida de resistividade mostra que os filmes recosidos a esta temperatura são dielétricos, provavelmente 'Nb IND. 2¿¿O IND. 5¿
Abstract: Not informed.