Estudo das propriedades estruturais e optoeletrônicas de filmes finos de germânio amorfo hidrogenado

Estudo das propriedades estruturais e optoeletrônicas de filmes finos de germânio amorfo hidrogenado

Marcelo Mulato

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP M896e

Campinas, SP : [s.n.], 1994.

[88] f. : il.

Orientador: Ivan Emilio Chambouleyron

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: Nesse trabalho apresentamos resultados experimentais relacionados com a estrutura de microvoids e a hidrogenação de filmes finos de germânio amorfo hidrogenado (a-Ge:H). As amostras foram crescidas por rf reactive sputtering (13.56MHz) e foram estudadas como depositadas. Como técnicas de...

Abstract: In this work experimental data related to micro void structure and hydrogenation of hydrogenated amorphous germanium (a-Ge:H) thin films are presented. The samples were grown by rf reactive sputtering (13.56MHz) and were studied as grown. The main characterization techniques were infrared...

Estudo das propriedades estruturais e optoeletrônicas de filmes finos de germânio amorfo hidrogenado

Marcelo Mulato


										

Estudo das propriedades estruturais e optoeletrônicas de filmes finos de germânio amorfo hidrogenado

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