Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SFG e a sua aplicação no processo de fabricação de "air bridger"

Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SFG e a sua aplicação no processo de fabricação de "air bridger"

Ricardo Toshinori Yoshioka

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP Y83d

Campinas, SP : [s.n.], 1992.

109f. : il.

Orientador : Peter Jurgen Tatsch

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Neste trabalho é apresentado um estudo sobre a decapagem por plasma de fotorresiste num reator tipo barril, sendo que o 02 e SF6 foram utilizados como gases de processo. Este estudo foi aplicado no processo de fabricação de pontes aéreas (air bridges). No capítulo I, apresenta-se uma...

Abstract: Not informed.

Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SFG e a sua aplicação no processo de fabricação de "air bridger"

Ricardo Toshinori Yoshioka


										

Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SFG e a sua aplicação no processo de fabricação de "air bridger"

Ricardo Toshinori Yoshioka

    Exemplares