Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Jose Angelo Rodrigues Gregolin

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP G862d

Campinas, SP : [s.n.], 1979.

204 f. : il.

Orientador : Mauricio Prates de Campos Filho

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas

Resumo: Este trabalho apresenta a pesquisa realizada durante 1977 a 1979, do processo de deposição de Silício policristalino a partir de Triclorosilano e Hidrogênio. Este processo se constitui numa das etapas fundamentais da moderna tecnologia de produção do Silício com pureza de grau eletrônico. A...

Abstract: The present report covers work carried out from 1977 to 1979 on the deposition of policrystalline Silicon by reduction of Trichlorosilane (SiHC13). This process represents one of the fundamentals steps in modern Silicon technology towards producing electronic grade, i.e. high purity...

Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Jose Angelo Rodrigues Gregolin


										

Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Jose Angelo Rodrigues Gregolin

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