Orientador: Jaime Frejlich

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: O objetivo deste trabalho é a seleção e o desenvolvimento de técnicas para preparação e caracterização óptica de filmes de fotorresina. A utilização de filmes fotossensíveis para o registro, processamento de imagens e fabricação de componentes, requer a fabricação de filmes numa ampla faixa...

Resumo: O objetivo deste trabalho é a seleção e o desenvolvimento de técnicas para preparação e caracterização óptica de filmes de fotorresina. A utilização de filmes fotossensíveis para o registro, processamento de imagens e fabricação de componentes, requer a fabricação de filmes numa ampla faixa de espessuras (décimos a dezenas de micra) que apresentem boa qualidade. Construímos uma máquina de imersão para testes experimentais e comparamos os resultados obtidos com esta técnica com aqueles obtidos na "máquina à rolo" e o "método de centrifugação". A qualidade dos filmes fabricados por imersão é comparável aos obtidos com a centrífuga, mas muito melhor que usando o rolo. Quando comparados com a centrífuga, nosso processo de deposição demanda mais tempo mas permite a produção de filmes extremamente finos, depende menos das condições de limpeza e forma dos substratos, e gasta menos material. Desenvolvemos para este método uma curva de calibração geral o que deve facilitar muito o emprego desta técnica. Desenvolvemos uma modificação no esquema experimental do método de Abelès para determinação do índice de refração de filmes pouco absorventes sobre substratos transparentes. O método se aplica muito bem para filmes de índice muito maior do que do substrato e cuja medida é muito difícil por outras técnicas

Abstract: This work is concerned with the selection and development of techniques for fabrication and optical characterization of thin photoresist films. The use of these films for optical recording, image processing and component fabrication requires good quality films ranging from tenths up to...

Abstract: This work is concerned with the selection and development of techniques for fabrication and optical characterization of thin photoresist films. The use of these films for optical recording, image processing and component fabrication requires good quality films ranging from tenths up to tens of micrometers in thickness. We developed a machine for dip-coating and compared its performance with that of others such as the rolling machine, and the spinning-wheel method. The quality of the dip-coated films are comparable to those obtained with the spinning wheel and much better than those prepared with the rolling machine. As compared with the spinning-wheel, the dip-coating is more time consuming but allows to produce extremely thin films, it is less dependent upon the cleanliness and shape of substrates and wastes less photoresist.: A calibration curve was developed for the dip-coating process which may largely facilitate the practical use of this method. An implementation on the Abelès method was developed for measuring the refractive index of thin films coated on transparent substrate and using coherent light. This modification allows also measuring index of refraction much higher than that of the substrate, which is otherwise a complicate matter