Análise de alta precisão das variáveis cristalográficas de um filme fino

Análise de alta precisão das variáveis cristalográficas de um filme fino

Sheila Maria Del Nery

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP D382a

Campinas, SP : [s.n.], 1979.

97 f. : il.

Orientador: Stephenson Caticha Ellis

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campimas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: A espessura de um filme fino é medida, neste trabalho, com um erro relativo de 0,4%, que para o filme analisado é da ordem de uma camada atômica. A precisão conseguida é muito maior que a encontrada na literatura. São encontrados valores excepcionalmente bons para o erro quadrático médio nas...

Abstract: The thickness af a thin film is measured in this wark with a relative error of 0.4% which for the analysed film is of the order of one atomic layer. The precision attained is then much better than in previous reported work in the literature. Also the quadratic errors in the Fourier...

Análise de alta precisão das variáveis cristalográficas de um filme fino

Sheila Maria Del Nery


										

Análise de alta precisão das variáveis cristalográficas de um filme fino

Sheila Maria Del Nery

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