Orientador: Stephenson Caticha Ellis

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campimas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: A espessura de um filme fino é medida, neste trabalho, com um erro relativo de 0,4%, que para o filme analisado é da ordem de uma camada atômica. A precisão conseguida é muito maior que a encontrada na literatura. São encontrados valores excepcionalmente bons para o erro quadrático médio nas...

Resumo: A espessura de um filme fino é medida, neste trabalho, com um erro relativo de 0,4%, que para o filme analisado é da ordem de uma camada atômica. A precisão conseguida é muito maior que a encontrada na literatura. São encontrados valores excepcionalmente bons para o erro quadrático médio nas transformadas de Fourier e nas intensidades da curva desconvolucionada. Expressões são deduzidas para o cálculo dos erros das transformadas e das intensidades da curva desconvolucionada e se prova que são independentes dos pontos em que estão sendo calculados. É desenvolvido um método simples para analisar a variação da espessura de um filme fino. Encontrou-se para o filme fino analisado, que em 99,5% de sua extensão ele é uniforme

Abstract: The thickness af a thin film is measured in this wark with a relative error of 0.4% which for the analysed film is of the order of one atomic layer. The precision attained is then much better than in previous reported work in the literature. Also the quadratic errors in the Fourier...

Abstract: The thickness af a thin film is measured in this wark with a relative error of 0.4% which for the analysed film is of the order of one atomic layer. The precision attained is then much better than in previous reported work in the literature. Also the quadratic errors in the Fourier Transforms and in the intensities in the deconvaluted profile are much better than usual. Expressions are deduced for the errors in the transforms and in the final intensities which are shown to be independent of the individual points where they are calculated. A new and simple method to analyse the variation of the film thickness was developped. In the case analysed it was found that the thickness was uniform over about 99.5% of the surface with the above cited precision