Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos

Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos

Marlio J. Couto Bonfim

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP B641d

Campinas, SP : [s.n.], 1992.

1v. (varias paginações).

(Publicação FEE)

Orientador : Jacobus W. Swart

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: A técnica de deposição de filmes finos por CVD (Chemical Vapor Deposition) é de grande interesse atual, especialmente na mlcroeletrônica. Este trabalho apresenta o desenvolvimento de um sistema RT/RPCVD (Rapid Thermal / Remote Plasma CVD) para deposição de filmes isolantes e metálicos,...

Abstract: Thin film deposition by means of Chemical Vapor Deposition (CVD) has been of a great interest, specially in microelectronics. This work shows the development of a RT/RPCVD (Rapid Thermal / Remote Plasma CVD) systems for thin film deposition of dielectrics and metais, for use on...

Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos

Marlio J. Couto Bonfim


										

Desenvolvimento de um sistema RP/RTCVD para deposição de filmes finos isolantes e metalicos

Marlio J. Couto Bonfim

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