Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo

Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo

Cicero Ferreira Fernandes Costa Filho

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP C823c

Campinas, SP : [s.n.], 1985.

119f. : il.

Orientador: Edmundo da Silva Braga

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas

Resumo: Para fabricaçao de circuitos e dispositivos VLSI Very Laige Scale of Integration (Muita Larga Escala de Integraçao), a tecnologia de corrosão de material por plasma desempenhou um papel fundamental. A despeito desse processo de corrosao já ser atual mente utilizado em linhas de produçao na...

Abstract: Not informed.

Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo

Cicero Ferreira Fernandes Costa Filho


										

Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo

Cicero Ferreira Fernandes Costa Filho

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