Oxidação seletiva do silicio em baixas temperaturas : uma aplicação em dispositivos MOS auto-alinhados

Oxidação seletiva do silicio em baixas temperaturas : uma aplicação em dispositivos MOS auto-alinhados

Carlos Pimentel de Sousa

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP So85o

Campinas, SP : [s.n.], 1984.

1v. (varias paginações) : il.

Orientador: Alaide Pellegrini Mammana

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Neste trabalho nós investigamos as condições de crescimento de uma camada de óxido de silício na interface entre o filme de Sn02 e o silício. O crescimento deste óxido, bem como suas propriedades de interface, foram estudadas em função da temperatura e ambiente de tratamento térmico; do tipo...

Abstract: Not informed.

Oxidação seletiva do silicio em baixas temperaturas : uma aplicação em dispositivos MOS auto-alinhados

Carlos Pimentel de Sousa


										

Oxidação seletiva do silicio em baixas temperaturas : uma aplicação em dispositivos MOS auto-alinhados

Carlos Pimentel de Sousa

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