Ataque quimico seletivo do silicio excitado por laser de Hene

Ataque quimico seletivo do silicio excitado por laser de Hene

Gilmar Patrocinio Thim

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP T348a

Campinas, SP : [s.n.], 1988.

96f. : il.

Orientador : Vitor Baranauskas

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Neste trabalho apresentamos uma técnica para a abertura de janelas no silício monocristalino tipo N com avaliação da profundidade de ataque em tempo real , baseado na reação fotoinduzida do silício com HFaq quando excitado por um laser de HeNe de 0,8 mW de potência atuando com o comprimento...

Abstract: Not informed.

Ataque quimico seletivo do silicio excitado por laser de Hene

Gilmar Patrocinio Thim


										

Ataque quimico seletivo do silicio excitado por laser de Hene

Gilmar Patrocinio Thim

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