Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar

Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar

Peter Jurgen Tatsch

TESE

Português

(Broch.)

T/UNICAMP T188e

Campinas, SP : [s.n.], 1988.

1v.(varias paginações) : il.

Orientador : Edmundo da Silva Braga

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Neste trabalho é apresentado um estudo da viabilidade da oxidação do silício por plasma, em reator planar, como prcesso de baixa temperatura para a fabricação de circuitos integrados. No capítulo inicial coloca-se o contexto do
trabalho assim como a sua proposiçao. No segundo capítulo...

Abstract: Not informed.

Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar

Peter Jurgen Tatsch


										

Estudo da viabilidade da oxidação do silicio por plasma em reator planar

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