Medida de espessura de filmes finos com interferômetro de haidinger
Elisabeth Andreoli de Oliveira
DISSERTAÇÃO
Português
T/UNICAMP OL4m
Campinas, SP : [s.n.], 1987.
59 f. : il.
Orientador: Jaime Frejlich
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin
Resumo: Apresentamos um método não destrutivo para medida de espessura de filmes finos transparentes depositados em substratos transparentes, usando um interferômetro de Haidinger. A partir das frações de interferência, medidas para vários comprimentos de onda, e do índice de refração para um único...
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Resumo: Apresentamos um método não destrutivo para medida de espessura de filmes finos transparentes depositados em substratos transparentes, usando um interferômetro de Haidinger. A partir das frações de interferência, medidas para vários comprimentos de onda, e do índice de refração para um único comprimento de onda, determinamos a espessura do filme e sua dispersão cromática, através de um procedimento analítico-numérico
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Abstract: We introduce a non-destructive method for the thickness measurement of thin transparent films coated on transparent substrates, using a Haidinger interferometer. From the interference fractions measured for various wavelengths, and the refraction index for only one wavelength, we determine...
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Abstract: We introduce a non-destructive method for the thickness measurement of thin transparent films coated on transparent substrates, using a Haidinger interferometer. From the interference fractions measured for various wavelengths, and the refraction index for only one wavelength, we determine the film thickness and its chromatic dispersion through an analytic-numeric procedure
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Medida de espessura de filmes finos com interferômetro de haidinger
Elisabeth Andreoli de Oliveira
Medida de espessura de filmes finos com interferômetro de haidinger
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