Resumo: Sensores de Pixel Ativo (APS) baseados em tecnologia nMOS simples e com alta razão de aspecto podem apresentar boa sensibilidade para fotodetecção e oferecer uma opção de baixo custo para circuitos de sensoreamento de imagens. Neste trabalho são apresentados o leiaute, fabricação e caracterização de fotodiodos, transitores e APSs construídos no Centro de Componentes Semicondutores (CCS). Todas as etapas do projeto foram realizadas no CCS, incluindo as máscaras litográficas, fabricadas em um processo óptico. Foi utilizado um processo nMOS de 5[j,m, de porta metálica, com uma camada de metal para interconexões e apenas quatro níveis de litografia. Os dispositivos apresentam resultados satisfatórios e compatíveis ao comportamento previsto em simulações SPICE, indicando que podem obter bom desempenho em circuitos para aplicações específicas, como sensores ópticos de posição e sensores de frente de onda, em diversas áreas, como astronomia, oftalmologia e microscopia de força atômica (AFM) Ver menos

Abstract: Active Pixel Sensors (APS) based on a simple nMOS technology with high aspect ratio may present good sensitivity to photodetection and offer a low cost option for image sensing circuits. This work presents the layout, fabrication and characterization of photodiodes, transistors and APSs built at the Center for Semiconductor Components (CCS). All the process stages took place in CCS, including the manufacturing of the lithography masks through an optical process. The technology used was an nMOS, 5[j,m, metal gate, with a single metal layer for interconnections and only four lithography levels. The devices presented satisfactory results, compatible to the behavior predicted by SPICE simulations, suggesting a good performance in application specific circuits, such as optical position sensitive detectors and wavefront sensors, and in several fields, such as astronomy, ophthalmology and atomic force microscopy (AFM) Ver menos