Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X

Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X

Paulo Sergio Guimarães

TESE

Português

T/UNICAMP G947e

Campinas, SP : [s.n.], 1979.

118 f. : il.

Orientador: Nelson de Jesus Parada

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: Este trabalho tem um duplo objetivo. Em uma primeira parte desenvolver o método de cluster, variante cristalina, visando aplicá-lo ao estudo de cristais covalentes. Na segunda parte do trabalho o método é usado no estudo de um material iônico. São estudados, também, os efeitos causados sobre...

Abstract: This work is composed of two distinct parts. In the first part we intend to develop the cluster method, crystaline variant, intending to study covalent crystals. In the second part the method is applied to the study of an ionic material. We also studied the effects of the application of...

Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X

Paulo Sergio Guimarães


										

Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X

Paulo Sergio Guimarães

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