Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio

Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio

Elnatan Chagas Ferreira

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP F413o

Campinas, SP : [s.n.], 1984.

1v. (paginação irregular).

Orientador: Wilmar Bueno de Moraes

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas

Resumo: O objetivo deste trabalho é investigar a obtenção de filmes de silício policristalino, depositados no reator epitaxial projetado e construído no nosso laboratório, a partir da redução de tetracloreto de silício por hidrogênio, e caracterizar estes filmes visando aplicá-los em uma tecnologia...

Abstract: Not informed.

Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio

Elnatan Chagas Ferreira


										

Obtenção e caracterização de filmes de silicio policristalino para aplicação em tecnologia MOS porta de silicio

Elnatan Chagas Ferreira

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