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Corrosão anisotropica e formação de superficie nanoestruturada de Si utilizando plasma de alta densidade

Corrosão anisotropica e formação de superficie nanoestruturada de Si utilizando plasma de alta densidade

Clovis Fischer

TESE

Português

T/UNICAMP F522c

[Si anisotropic etching and nanostructured surface formation using high density plasma]

Campinas, SP : [s.n.], 2009.

180 p. : il.

Orientador: Jacobus Willibrordus Swart, Stanislav Alexandrovich Moshkalev

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação

Resumo: Este trabalho explora a implementação, caracterização e aplicações do processo tipo BOSCH para corrosão de silício em larga escala (bulk silicon etching ou bulk silicon micromachining) utilizando plasma de alta densidade produzido por acoplamento indutivo (ICP). Este processo de corrosão é... Ver mais
Abstract: This work explores the implementation, characterization and applications of BOSCH type process for bulk silicon etching (or bulk silicon micromachining) using inductively coupled high density plasma (ICP). This etching process is characterized by its high anisotropy and is performed by... Ver mais

Corrosão anisotropica e formação de superficie nanoestruturada de Si utilizando plasma de alta densidade

Clovis Fischer

										

Corrosão anisotropica e formação de superficie nanoestruturada de Si utilizando plasma de alta densidade

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