Influencia da distancia da ativação dos sistemas adesivos autocondicionantes na resistencia de união e qualidade da hibridização em dentina e esmalte
Cintia Tereza Pimenta de Araujo
DISSERTAÇÃO
Português
T/UNICAMP Ar15i
[Influence of ativation of self-etching adhesives systems on the microtensile bond strength and quality of hibrydization in dentin and enamel]
Piracicaba, SP : [s.n.], 2009.
65 f. : il.
Orientador: Luis Alexandre Maffei Sartini Paulillo
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Odontologia de Piracicaba
Resumo: Os sistemas adesivos autocondicionantes apresentam alta concentração de água utilizada como solvente para ionização de monômeros ácidos. A presença do excesso deste solvente no adesivo aplicado ao tecido dental pode comprometer a formação da camada híbrida, como também interferir na...
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Resumo: Os sistemas adesivos autocondicionantes apresentam alta concentração de água utilizada como solvente para ionização de monômeros ácidos. A presença do excesso deste solvente no adesivo aplicado ao tecido dental pode comprometer a formação da camada híbrida, como também interferir na polimerização dos monômeros, produzindo interfaces de união permeáveis. O uso de sistemas adesivos autocondicionantes em situações clínicas de preparos cavitários Classe II com caixas proximais profundas, apresenta além dos problemas relacionados à sua composição, a possibilidade de ter a qualidade de polimerização afetada pela distância da fonte de luz nas paredes mais profundas. Assim a proposta deste estudo foi avaliar a influência da distância da fonte de luz na resistência à união através da microtração e avaliar a qualidade de hibridização através da nanoinfiltração de nitrato de prata em sistemas adesivos autocondicionantes aplicados aos substratos de esmalte e dentina. Para a realização deste estudo foram utilizados 198 incisivos bovinos e três sistemas adesivos autocondicionantes, Clearfil Protect Bond, Clearfil Tri-S e One up Bond F Plus que foram aplicados em superfícies planas de esmalte e dentina. A fotoativação dos adesivos foi realizada nas distâncias de 0,5, 3 e 6 mm e após a polimerização dos adesivos foi confeccionado um bloco de resina composta TPH3 de 4 mm de altura. Os resultados de microtração mostraram que distância da fonte de luz não influenciou significativamente a resistência à união, entretanto a mesma foi dependente do sistema adesivo e do substrato, em que o adesivo de dois passos Clearfil Protect Bond-Kuraray apresentou melhor comportamento em todas as condições experimentais. Entre os substratos, o esmalte mostrou as maiores médias de resistência de união. A análise de variância revelou diferenças significativas de porcentagem de nanoinfiltração para os fatores em estudo sistema adesivo (p<0.0001), substrato dental (p=0,0001) e para as interações distânciaXsubstrato (P=0,0159) e adesivoXsubstrato (P=0,0079). Para a interação distânciaXsubstrato, não foram observadas diferenças significativas de nanoinfiltração entre os grupos fotoativados às distâncias de 3 e 6 mm nas interfaces em dentina, entretanto os mesmos apresentaram menor nanoinfiltração do que os grupos com 0,5 mm de distância de fotoativação. Assim pelos dados observados neste estudo pôde-se concluir que a distância da fonte de luz não influenciou a resistência à microtração dos sistemas adesivos e o padrão de nanoinfiltração das interfaces em esmalte. Por outro lado, o padrão de nanoinfiltração em dentina foi adversamente influenciada pela fotoativação às distâncias de 0,5 e 6 mm.
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Abstract: The self-etching adhesives systems present high water content that are used as solvent for acid monomer ionization. The presence of the excess of this solvent in the hybrid layer can compromise its the formation, as well as to affect the polymerization of monomers producing bonding...
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Abstract: The self-etching adhesives systems present high water content that are used as solvent for acid monomer ionization. The presence of the excess of this solvent in the hybrid layer can compromise its the formation, as well as to affect the polymerization of monomers producing bonding interfaces permeables. The use of self-etching adhesives in clinical situations of Class II cavities with deep box, presents beyond the problems related to its composition, the possibility to have the quality of polymerization affected for the distance of the source of light in the deepest walls. Thus the purpose of this study was to evaluate the influence of the light-tip distance of a halogen light-curing lights in the microtensile bond strength (MTBS) and to evaluate the quality of hybridization through the nanoleakage of self-etch adhesive systems applied to substrate of enamel and dentine. For the accomplishment of this study 198 bovine incisors and three selfetching adhesive systems were used, Clearfil Protect Bond, Clearfil Tri-S and One up Bond F Plus that were applied in plain surfaces of enamel and dentine. The photoactivation of the adhesives was carried through at 0,5, 3 and 6 mm distances and after a 4-mm thick TPH3 composite block was built. The results showed that distance of the light-guide did not influence significantly the MTS, however the same one were dependent of the adhesive system and substrate, where the adhesive of two steps Clearfil Protect Bond (Kuraray) presented better behavior in all experimental conditions. Between dentals substrate the enamel showed highest mean bond strength. For the nanoleakage analysis, the threeway ANOVA detected no significant difference for the distance of the lightcuring tip and significant differences for the adhesive (p<0.0001) and substrate (p<0.0001) factors, and the double interactions between distance X substrate (p=0.0159) and between adhesive X substrate (p = 0.0079) were also significant. For the interaction distance X substrate, no significant difference in nanoleakage was observed among groups light-activated with curing unit tip having a distance of 3 and 6 mm when the adhesive interfaces were in dentin. On the other hand, such groups showed lower nanoleakage than those with 0,5 mm distance between curing unit tip and the bonded surface. Thus for the data observed in this study it could be concluded that the distance of the light-guide did not influence the !TBS values of the adhesives systems and the nanoleakage patterns of the enamel interfaces. However, the nanoleakage patterns were adversely influenced by photoactivation at distances of 0,5 and 6 mm.
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Franco, Eduardo Batista
Avaliador
Martins, Luís Roberto Marcondes, 1960-
Avaliador
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Cintia Tereza Pimenta de Araujo
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Cintia Tereza Pimenta de Araujo
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