Otimização de uma linha para produção de triclorosilano de alta pureza a partir de silicio metalurgico nacional
Sergio Ferreira do Amaral
DISSERTAÇÃO
Português
T/UNICAMP Am13o
Campinas, SP : [s.n.], 1986.
104f. : il.
Orientador: Rezende Gomes dos Santos
Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas
Resumo: Este trabalho apresenta a otimização do processo de obtenção e purificação de Triclorosilano à partir do silício metalúrgico nacional. Este processo se constitui numa das etapas principais na tecnologia de Silício com pureza de grau eletrônico. A análise experimental do processo envolveu o...
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Resumo: Este trabalho apresenta a otimização do processo de obtenção e purificação de Triclorosilano à partir do silício metalúrgico nacional. Este processo se constitui numa das etapas principais na tecnologia de Silício com pureza de grau eletrônico. A análise experimental do processo envolveu o projeto e a construção dos equipamentos em aço inox 316, utilizados no processamento para a obtenção e purificação do Triclorosilano. Podendo-se ressaltar os seguintes componentes: - Reator Vertical - Condensador de Triclorosilano - Coletor de Sólidos - Coletor de Triclorosilano - Coluna de Destilação - Balão de Vaporização Os equipamentos apresentaram um bom desempenho e permiti ram otimizar as condições operacionais do processamento d9 Triclorosilano. são as seguintes condições estabelecidas experimentalmente: A - Obtenção do Triclorosilano Temperatura do Reator: 360°C Vazão de HCl (com aquecimento) : 70 l/h. Estes valores permitiram obter uma mistura de Clorosilano (Triclorosilano - SiHC13 e Tetraclorosilano - SiC14) com uma taxa de produção média de 120 g/h com uma porcentagem de 90% de Triclorosilano. B - Purificação de Triclorosilano Coluna de destilação em Aço Inox 316 empacotada com Anéis de Rasching de 4 mm de diâmetro
Temperatura da Coluna: 31 °C Taxa de Refluxo: 5,2 : 1 N° de Pratos Teórico: 12. Nestas condições, obteve-se Triclorosilano com pureza superior à 99,9%, com uma taxa média de produção de 102 g/h. Ver menos
Temperatura da Coluna: 31 °C Taxa de Refluxo: 5,2 : 1 N° de Pratos Teórico: 12. Nestas condições, obteve-se Triclorosilano com pureza superior à 99,9%, com uma taxa média de produção de 102 g/h. Ver menos
Abstract: This work demonstrates an optimization process for the production and purification of trichlorosilane from metallurgist silicon. This process is one of the main steps of the tecnology for the production of silicon of very high purity. For the experimental analysis it was necessary the...
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Abstract: This work demonstrates an optimization process for the production and purification of trichlorosilane from metallurgist silicon. This process is one of the main steps of the tecnology for the production of silicon of very high purity. For the experimental analysis it was necessary the design and construct, using inox steel 316, all the equipment which was used in the process of obtaining and purifying the trichlorosilane. The following are the principal components: - vertical reactor - condenser of trichlorosilane
- colector for solids - colector for trichlorosilane - destilation column
- vaporization chamber. The good perfomance of the equipment allowed us to optimize the operational conditions for processing the trichlorosilane. The following conditions were experimentally established: A - Preparation of the trichlorosilane Temperature of the reactor: 360 °C Volume output of HCl (heated) : 70 l/h. These values allowed the production of a mixture of chlorosilane (Trichlorosilane - SiHC13 + Tetrachlorosilane - SiC14) at a mean rate of 120 g/h with 90% yield of trichlorosilane. B - Purification of the Trichlorosilane Destilation column of inox stee1 316 packed Rashing rings of .4 mm diameter Column temperature: 31 °C Reflux rate : 5,2 : 1
Number of theoretical plates: 12. With the above conditions the trichlorosilane was obtained with a purity higher than 99,9% with a mean production rate of 102 g/h. Ver menos
- colector for solids - colector for trichlorosilane - destilation column
- vaporization chamber. The good perfomance of the equipment allowed us to optimize the operational conditions for processing the trichlorosilane. The following conditions were experimentally established: A - Preparation of the trichlorosilane Temperature of the reactor: 360 °C Volume output of HCl (heated) : 70 l/h. These values allowed the production of a mixture of chlorosilane (Trichlorosilane - SiHC13 + Tetrachlorosilane - SiC14) at a mean rate of 120 g/h with 90% yield of trichlorosilane. B - Purification of the Trichlorosilane Destilation column of inox stee1 316 packed Rashing rings of .4 mm diameter Column temperature: 31 °C Reflux rate : 5,2 : 1
Number of theoretical plates: 12. With the above conditions the trichlorosilane was obtained with a purity higher than 99,9% with a mean production rate of 102 g/h. Ver menos
Otimização de uma linha para produção de triclorosilano de alta pureza a partir de silicio metalurgico nacional
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