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Modificações induzidas por íons de alta energia em filmes finos de organosilicones sintetizados por PECVD

Modificações induzidas por íons de alta energia em filmes finos de organosilicones sintetizados por PECVD

Rogerio Valentim Gelamo

TESE

Português

(Broch.)

T/UNICAMP G28m

[Modifications induced by high energy ions in organosilicones thin films syntesized by PECVD]

Campinas, SP : [s.n.], 2007.

103 p. : il.

Orientador: Mário Antônio Bica de Moraes

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: Filmes finos de polisiloxanos, polisilazanos e policarbosilanos, sintetizados por Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma (PECVD), foram irradiados com os íons He +, Ne +, Ar +e Kr +, com energia de 170 keV, e fluências de 1x10 14 , 5x10 14 , 1x10 15 , 5x10 15e 1x10 16 íons/cm 2 . A... Ver mais
Abstract: Thin films of polysiloxanes, polysilazanes and polycarbosilanes, synthesized by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), were irradiated with 170 keV He + , Ne + , Ar + and Kr + ions, at 170 keV at fluences of 1x10 14 , 5 x10 14 , 1x10 15 , 5x10 15 and 1 x10 16 ions/cm -2 . The... Ver mais

Modificações induzidas por íons de alta energia em filmes finos de organosilicones sintetizados por PECVD

Rogerio Valentim Gelamo

										

Modificações induzidas por íons de alta energia em filmes finos de organosilicones sintetizados por PECVD

Rogerio Valentim Gelamo

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