Terminal de consulta web

Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS

Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS

Alcinei Moura Nunes

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP N922c

[Plasma etching of polysilicon and silicon nitride films for MEMS and CMOS technology]

Campinas, SP : [s.n.], 2005.

151p. : il.

Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Stanislav A. Moshkalyov

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação

Resumo: Este trabalho apresenta os resultados e as discussões dos mecanismos de corrosão por plasma de filmes de silício policristalino e nitreto de silício para aplicações em dispositivos MEMS e CMOS. A corrosão foi feita em um reator convencional de corrosão por plasma em modo RIE (Reactive Ion... Ver mais
Abstract: This work presents the results and the discussion about mechanisms of plasma etching of polysilicon and silicon nitride films for applications in MEMS and CMOS devices. The etching was performed in a conventional reactor of plasma etching in a RIE mode (Reactive Ion Etching). For... Ver mais

Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS

Alcinei Moura Nunes

										

Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS

Alcinei Moura Nunes

    Exemplares

    Nº de exemplares: 2
    Não existem reservas para esta obra