Orientador: Sergio Artur Bianchini Bilac

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: A técnica de deposição de filmes magnetron sputtering apresenta muitas vantagens em relação à outros métodos, como por exemplo, a simplicidade do equipamento, o baixo custo de manutenção, fácil manuseio e, a possibilidade de obtenção de altas taxas de deposição. Sua utilização é hoje muito...

Resumo: A técnica de deposição de filmes magnetron sputtering apresenta muitas vantagens em relação à outros métodos, como por exemplo, a simplicidade do equipamento, o baixo custo de manutenção, fácil manuseio e, a possibilidade de obtenção de altas taxas de deposição. Sua utilização é hoje muito difundida em áreas como; microeletrônica, metalurgia e óptica. Foram projetados, desenvolvidos e caracterizados cátodos magnetron de corrente continua do tipo planar, circulares e retangulares. Foram também depositados e caracterizados filmes metálicos e liga metálica para comprovar o funcionamento do magnetron sistema de disposição. Os resultados foram excelentes comparados ao resultados presentes na literatura

Abstract: Magnetron sputtering, as a thin film deposition technique, shows advantage regarding other deposition methods, for example, the equipment can be relatively simple, easy handling, low maintenance cost and, make possible high rate deposition. The utilization of the technique in...

Abstract: Magnetron sputtering, as a thin film deposition technique, shows advantage regarding other deposition methods, for example, the equipment can be relatively simple, easy handling, low maintenance cost and, make possible high rate deposition. The utilization of the technique in microelectronics, metallurgy and optics are unquestionable. Planar magnetron sources (circular and rectangular) were designed, developed and characterized. Metals and metal alloy films were deposited to confirm operation as a film deposition system. The results were excellent when compared to literature