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Leis de escala e dimensão fractal em filmes finos : microscopia de força atômica e técnicas eletroquímicas

Leis de escala e dimensão fractal em filmes finos : microscopia de força atômica e técnicas eletroquímicas

Tersio Guilherme de Souza Cruz

TESE

r d

T/UNICAMP C889L

Campinas, SP : [s.n.], 2002.

131 p. : il.

Orientadores: Annette Gorenstein, Maurício Urban Kleinke

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin"

Resumo: Neste trabalho, a morfologia da superfície de filmes finos de NiOx e MoOx depositados por pulverização catódica foi estudada através da técnica de microscopia de força atômica e por técnicas eletroquímicas (voltametria cíclica e espectroscopia de impedância eletroquímica). Em cada técnica, a... Ver mais
Abstract: In this work, the surface morphology of NiOx and MoOx thin films deposited by r.f. sputtering was studied by atomic force microscopy and electrochemical techniques (cyclic voltammetry and electrochemical impedance spectroscopy). For each technique, the surface characterization was done by... Ver mais

Aberto

Leis de escala e dimensão fractal em filmes finos : microscopia de força atômica e técnicas eletroquímicas

Tersio Guilherme de Souza Cruz

										

Leis de escala e dimensão fractal em filmes finos : microscopia de força atômica e técnicas eletroquímicas

Tersio Guilherme de Souza Cruz

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