Contribuição a simulação computacional do processo de LPCVD

Contribuição a simulação computacional do processo de LPCVD

Augusto Cesar Rodolpho

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP R618c

Campinas, SP : [s.n.], 1990.

63f. : il.

(Publicação FEE)

Orientador: Vitor Baranauskas

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica

Resumo: Este trabalho foi dedicado ao estudo e simulação do processo de LPCVD-Deposição Químka à partir da Fase Vapor sob Baixa Pressão. A deposição de silício por decomposição pirolítka de silana foi tomada como reação básica devido à sua importância e simplicidade, sem contudo perder-se a...

Abstract: This work deals with the study and simulation of LPCVD-Low Pressure Chemical Vapour Deposition- a basic process for thin film deposition. The reaction of silicon deposition by silane pyrolisis is adopted for its simplicity and importance without sacrifieing the quality of treatment. To...

Contribuição a simulação computacional do processo de LPCVD

Augusto Cesar Rodolpho


										

Contribuição a simulação computacional do processo de LPCVD

Augusto Cesar Rodolpho

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