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Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos de óxido de titânio depositados por PECVD

Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos de óxido de titânio depositados por PECVD

Nilson Cristino da Cruz

TESE

Português

(Broch.)

T/UNICAMP C889p

Campinas, SP : [s.n.], 1999.

150 p. : il.

Orientador: Mário Antônio Bica de Moraes

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: Neste trabalho foram investigados os processos de deposição a plasma de filmes finos de óxido de titânio e da formação de partículas nas descargas empregadas nas deposições. Os filmes foram produzidos por uma técnica inédita de deposição derivada a partir do PECVD (Plasma Enhanced Chemical... Ver mais
Abstract: In this work, the plasma deposition of thin titanium oxide films and plasma particle formation processes have been investigated. The films were produced in a newly developed deposition technique derived from the conventional PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) proceedure. In... Ver mais

Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos de óxido de titânio depositados por PECVD

Nilson Cristino da Cruz

										

Propriedades estruturais e ópticas de filmes finos de óxido de titânio depositados por PECVD

Nilson Cristino da Cruz

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