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Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica

Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica

Nelmo Cyriaco da Silva

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP Si38n

Campinas, SP : [s.n.], 1999.

64 f. : il.

Orientador: Luiz Carlos Kretly

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação

Resumo: A tecnologia descrita neste trabalho foi desenvolvida para obtenção de feixe de íons de Érbio usando um equipamento implantador de íons tipicamente voltado à aplicações em microeletrônica. O Érbio é um elemento químico fundamental, que quando da sua incorporação em substratos ópticos e/ou... Ver mais
Abstract: The technology described herein is intended to produce Erbium beams, using typical ion implanter equipment normally used for microelectronics application. Erbium is a fundamental specie whose incorporation into optical or semiconductor substrates produces stimulated radiation that allows... Ver mais

Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica

Nelmo Cyriaco da Silva

										

Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica

Nelmo Cyriaco da Silva

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