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Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Juan Carlos Alvarado Alcocer

TESE

Português

(Broch.)

T/UNICAMP Al86c

Campinas, SP : [s.n.], 1999.

90p. : il.

Orientador: Vitor Baranauskas

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação

Resumo: Devido à complexidade envolvida nos processos de deposição quimica a partir da fase vapor (CVD) do diamante o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utilização de modelamentos computacionais adequados. Estes modelos são de difícil implementação pois necessitam incluir os fenômenos de... Ver mais
Abstract: Owing to the complexity involved in the processes of chemical vapor deposition (CVD) the development of CVD reactors for diamond growth requires the use of appropriate computer modelling. Such models need to treat mass transport and the chemical reactions, which occur in the reactor, the... Ver mais

Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Juan Carlos Alvarado Alcocer

										

Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Juan Carlos Alvarado Alcocer

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