Resumo: Este estudo avaliou o efeito do polimento químico sobre a liberação de monômero residual, dureza superficial, resistência transversa e a textura de superfície de resinas auto e termopolimerizáveis, comparando-o com o polimento mecânico. As amostras foram confeccionadas em resinas termopolimerizável Clássico e autopolimerizável JET -Clássico e divididas em 4 grupos: G1- resina autopolimerizável com polimento mecânico; G2 - resina autopolimerizável com polimento químico; G3 - resina termopolimerizável com polimento mecânico; G4resina termopolimerizável com polimento químico. Após os polimentos recebidos as amostras foram imersas em água destilada à temperatura de 37°C e as avaliações executadas nos períodos de 1, 2, 8 e 32 dias. A liberação do monômero foi realizada em espectrofotômetro BEKMAN OU 65; a dureza Knoop foi medida com microdurômetro SHIMAOZU HMV 2000; a resistência transversa por três pontos em uma máquina de ensaio universal EMIC OL 500, seguindo a especificação n° 12 da AOA. Os resultados foram submetidos a ANOVA (p=5%) sendo as médias do monôn:tero residual e dureza Knoop comparadas com o teste de comparação de médias não paramétrico e as de resistência transversa com o teste t ao nível de significância de 5%. Concluiu-se que: - o polimento químico aumentou a quantidade de monômero residual e reduziu os valores de dureza superficial das duas resinas de maneira significativa em todos os períodos estudados; O polimento químico não interferiu na resistência transversa da resina auto e' termopolimerizável. Na avaliação feita com MEV verificou-se que o polimento químico altera a camada superficial das duas resinas promovendo um aspecto ondulado semelhante Ver menos

Abstract: Although chemical polishing of dental acrylic resins have became a very used alternative, very litlle is known about tt:1e effect on the properties of acrylic resin. This study evaluated the effect of this polishing on the residual monomer release in the water, microhardness, transverse resistence and surface texture of heat and a could curing resins, comparing the results obtained with mechanical polishing. The specimens were made and divided into 4 groups: G1- Self-curing resins with mechanical polishing; G2- Self-curing resins with chemical polishing; G3- Heat-curing resins with mechanical polishing; G4- Heat-curing resins with chemical polishing. Afier having undergone to polishing the specimens were imerse on destiled water 37°C and the evaluations were made in 1, 2, 8 and 32 days. Monomers released in the water was evaluated with espectrophotometricaly; the Knoop micro-hardness was measured with Shimadzu a micro-hardness teste r ; the transverse resistance was measured by three points in a EMIC DL a universal machine, following ADA specification n° 12 . According to statistical analysis, it was concluded that : - chemical polishing have significantly increased the amount of residual monomers of' both resins in ali periods of time studied and have reduced the superficial hardness of them ali periods; chemical polishing had not interfered on transverse resistance of self-curing and of heat-curing resin. Through evaluation whit SEM it was checked that chemical polishing altered the superficial layer of both resins, promoting a wavy formo Ver menos