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Difração múltipla de raios-X no estudo de ordenamento em ligas semicondutoras e defeitos em semicondutores implantados

Difração múltipla de raios-X no estudo de ordenamento em ligas semicondutoras e defeitos em semicondutores implantados

Marcelo Assaoka Hayashi

TESE

Português

(Broch.)

T/UNICAMP H321d

Campinas, SP : [s.n.], 1999.

121 p. : il.

Orientador: Lisandro Pavie Cardoso

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin

Resumo: Este trabalho tem como objetivo o desenvolvimento da difração múlt ipla de raios-X, como uma nova técnica de caracterização de materiais semicondutores submetidos à implantação iônica, e também de estruturas epitaxiais que apresentam ordenamento atômico. A técnica também mostrou-se de grande... Ver mais
Abstract: The aim of this work is to develop the X-ray multiple diffraction, as a new technique to characterize semiconductors wafers submitted to ion implantation and, epitaxial layers that presents atomic ordering. The technique was also of great usefulness in the study of the heterostucture... Ver mais

Difração múltipla de raios-X no estudo de ordenamento em ligas semicondutoras e defeitos em semicondutores implantados

Marcelo Assaoka Hayashi

										

Difração múltipla de raios-X no estudo de ordenamento em ligas semicondutoras e defeitos em semicondutores implantados

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