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Camada epitaxial de INP : Zn Passivada por hidrogênio

Camada epitaxial de INP : Zn Passivada por hidrogênio

Dari de Oliveira Toginho Filho

DISSERTAÇÃO

or

T/UNICAMP T572c

Campinas, SP : [s.n.], 1998.

74 f. : il.

Orientador: Fernando Iikawa

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin"

Resumo: Este trabalho é a primeira parte do projeto de construção de sistemas de gás de elétrons ou buracos livres de baixa dimensionalidade em semicondutores utilizando a técnica de passivação por hidrogênio. Foi feito um estudo sistematizado da hidrogenação em camadas epitaxiais de Inp:Zn. A... Ver mais
Abstract: This work is the first part of a project for the fabrication of low-dirnensional free carrier systems in semiconductors using hydrogen passivation. We present a systematic study of hydrogenation in InP:Zn epitaxiallayers. The para11el plate reactor was used to create a hydrogen plasma for... Ver mais

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Camada epitaxial de INP : Zn Passivada por hidrogênio

Dari de Oliveira Toginho Filho

										

Camada epitaxial de INP : Zn Passivada por hidrogênio

Dari de Oliveira Toginho Filho

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