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Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p

Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p

Nidinalva Tamacia da Silva

DISSERTAÇÃO

Português

(Broch.)

T/UNICAMP Si38c

Campinas, SP : [s.n.], 1997.

78f. : il.

Orientador: Edmundo da Silva Braga

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação

Resumo: Neste trabalho foi realizada a deposição fotoeletroquímica seletiva de filmes finos de cobre a partir de uma solução de sulfato de cobre II sobre um substrato de silício-p polarizado catodicamente. O interesse no estudo da deposição desses filmes ocorreu devido à necessidade de substituição... Ver mais
Abstract: : In this work a selective photoelectrochemical copper deposition was developed. The copper thin films was photodeposited from a standard aqueous plating solutions on p-Si. Copper is a promising candidate for use in electronic packaging and ultra-Iarge scale integrated (ULSI) devices due... Ver mais

Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p

Nidinalva Tamacia da Silva

										

Contribuição ao estudo da deposição fotoeletroquimica de cobre silicio-p

Nidinalva Tamacia da Silva

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