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Eletrocromismo em filmes finos de óxido de níquel

Eletrocromismo em filmes finos de óxido de níquel

Irval Cardoso de Faria

TESE

Português

T/UNICAMP F225e

Campinas, SP : [s.n.], 1997.

87 f. : il.

Orientador: Annette Gorenstein

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin"

Resumo: Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de níquel depositados por sputtering reativo, variando-se alguns parâmetros durante a deposição. A microestrutura, a composição e a morfologia dos filmes foram analisadas por Difração de Raios-X, Retroespalhamento de Rutherford e... Ver mais
Abstract: In this work, nickel oxide thin films deposited by reactive sputtering under different deposition conditions were investigated. The microstructure, composition and morphology were studied by X-Ray Diffraction, Rutherford Backscattering Spectrometry and Atomiv Force Microscopy,... Ver mais

Eletrocromismo em filmes finos de óxido de níquel

Irval Cardoso de Faria

										

Eletrocromismo em filmes finos de óxido de níquel

Irval Cardoso de Faria

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