Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

Marco Antonio Robert Alves

TESE

Português

(Broch.)

T/UNICAMP AL87d

Campinas, SP : [s.n.], 1996.

1v.(varias paginações) : il.

Orientador: Edmundo da Silva Braga

Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação

Resumo: Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram obtidos através .da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de RF (RFPECVD). Os filmes foram depositados em um reator de placas paralelas utilizando como fonte do gás o metano (CH4) e a mistura...

Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

Marco Antonio Robert Alves


										

Deposição de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF

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