Investigações sobre o processo de deposição de filmes em plasmas de organometálico

Investigações sobre o processo de deposição de filmes em plasmas de organometálico

Nilson Cristino da Cruz

DISSERTAÇÃO

Português

T/UNICAMP C889i

Campinas, SP : [s.n.], 1995.

74 f. : il.

Orientador: Mário Antônio Bica de Moraes

Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin"

Resumo: Filmes finos foram depositados por Polimerização a Plasma a partir de descargas de misturas de tetrametilsilano (TMS), He, Ar e O2 e TMS, He, Ar e N2. Foram estudados tanto os filmes quanto as descargas nas quais eles foram depositados. Três sistemas de deposição foram utilizados. No...

Abstract: Thin films were deposited by plasma polymerization from plasmas of mixtures of tetramethylsilane (TMS), He and Ar with oxygen and with nitrogen. Both the discharges and the films were studied. Three deposition systems were used. In the first, a direct current plasma was maintained between...

Investigações sobre o processo de deposição de filmes em plasmas de organometálico

Nilson Cristino da Cruz


										

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Nilson Cristino da Cruz

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