Please use this identifier to cite or link to this item: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278179
Type: DISSERTAÇÃO
Degree Level: Mestrado
Title: Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica
Author: Hayashi, Marcelo Assaoka
Advisor: Cardoso, Lisandro Pavie, 1950-
Abstract: Resumo: Não informado

Abstract: Not informed.
Subject: Raios X - Difração
Implantação iônica
Semicondutores
Language: Português
Editor: [s.n.]
Citation: HAYASHI, Marcelo Assaoka. Difração múltipla de raios-x no estudo de defeitos superficiais em semicondutores com implantação iônica. 1995. 51 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/278179. Acesso em: 19 jun. 2019.
Date Issue: 1995
Appears in Collections:IFGW - Tese e Dissertação

Files in This Item:
File SizeFormat 
Hayashi_MarceloAssaoka_M.pdf3.31 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.