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dc.contributor.CRUESPUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASpt_BR
dc.descriptionOrientador: Annette Gorensteinpt_BR
dc.descriptionTese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin"pt_BR
dc.format.extent87 f. : il.pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdfpt_BR
dc.languagePortuguêspt_BR
dc.typeTESEpt_BR
dc.titleEletrocromismo em filmes finos de óxido de níquelpt_BR
dc.contributor.authorFaria, Irval Cardoso dept_BR
dc.contributor.advisorGorenstein, Annette, 1953-pt_BR
dc.contributor.institutionUniversidade Estadual de Campinas. Instituto de Física Gleb Wataghinpt_BR
dc.contributor.nameofprogramPrograma de Pós-Graduação em Físicapt_BR
dc.subjectFilmes de niquelpt_BR
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.description.abstractResumo: Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de níquel depositados por sputtering reativo, variando-se alguns parâmetros durante a deposição. A microestrutura, a composição e a morfologia dos filmes foram analisadas por Difração de Raios-X, Retroespalhamento de Rutherford e Microscopia de Fôrça Atômica, respectivamente. Todos os filmes apresentaram a fase cúbica do NiO, com parâmetros de rede, tamanhos de grão, planos preferenciais de crescimento, rugosidade e porosidade que dependem dos parâmetros de deposição. A relação de concentrações metal ligante ([Ni]/[O]) indicou a presença de vacâncias metálicas na rede cristalina. Além disto, as análises indicaram uma concentração importante de hidrogênio nos filmes, que comparece como um dopante não-intencional. As características ópticas dos filmes as grown foram estudadas por espectrofotometria, e são também apresentadas e discutidas. O comportamento das amostras frente à intercalação eletroquímica foi estudado em meio aquoso básico, acompanhando-se as variações de transmitância (efeito eletrocrômico) e as tensões mecânicas envolvidas no processo de inserção/de-inserção reversível de íons/elétrons na rede cristalina. Um modelo para o eletrocromismo em óxido de níquel é proposto. Finalmente, a técnica de eletrogravimetria foi utilizada para esclarecer o mecanismo da reação de intercalaçãopt
dc.description.abstractAbstract: In this work, nickel oxide thin films deposited by reactive sputtering under different deposition conditions were investigated. The microstructure, composition and morphology were studied by X-Ray Diffraction, Rutherford Backscattering Spectrometry and Atomiv Force Microscopy, respectively. All samples presented the cubic NiO structure. The lattice parameter, grain size, preferential growth direction, roughness and porosity are dependent on the deposition consditions. The metal-ligant concentration ratio ([Ni]/[O]) indicated the presence of metal vacancies in the films. Also, the analysis indicated an important hydrogen concentration in the films, that behaves as a non-intentional dopant. The thin film optical properties were analyzed by spectrophotometry, and are also presented and discussed in this work. The behavior of the samples upon intercalation were studied in basic aqueous electrolyte. The transmittance changes and the induced mechanical stresses were followed during the reversible insertion/extration of ions/electrons in the oxide structure. A model for the electrochromic effect in nickel oxide films is presented. Finally, the electrogravimetric technique was used to clarify the intercalation reaction mechanismen
dc.publisher[s.n.]pt_BR
dc.date.issued1997pt_BR
dc.identifier.citationFARIA, Irval Cardoso de. Eletrocromismo em filmes finos de óxido de níquel. 1997. 87 f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin", Campinas, SP. Disponível em: http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277343. Acesso em: 27 jun. 2019.pt_BR
dc.description.degreelevelDoutoradopt_BR
dc.description.degreedisciplineFísicapt_BR
dc.description.degreenameDoutor em Ciênciaspt_BR
dc.contributor.committeepersonalnamePaoli, Marco Aurelio dept_BR
dc.contributor.committeepersonalnameBulhoes, Luis Otavio de Sousapt_BR
dc.contributor.committeepersonalnameTorriani, Iris Concepcion Linares dept_BR
dc.contributor.committeepersonalnameKleinke, Maurício Urbanpt_BR
dc.date.defense1997-01-20T00:00:00Zpt_BR
dc.date.available2019-06-27T15:36:41Z-
dc.date.accessioned2019-06-27T15:36:41Z-
dc.description.provenanceMade available in DSpace on 2019-06-27T15:36:41Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Faria_IrvalCardosode_D.pdf: 2276363 bytes, checksum: 0c68397a9c47d813cfbe54670c47ade9 (MD5) Previous issue date: 1997en
dc.identifier.urihttp://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277343-
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