Please use this identifier to cite or link to this item: http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259243
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.CRUESPUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASpt_BR
dc.descriptionOrientadores: Jacobus Willibrordus Swart, Stanislav Moshkalevpt_BR
dc.descriptionDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computaçãopt_BR
dc.format.extent78 f. : il.pt_BR
dc.format.mimetypeapplication/pdfpt_BR
dc.languagePortuguêspt_BR
dc.typeDISSERTAÇÃOpt_BR
dc.titleMicro e nanofabricação (fabricação de contatos eletricos) por feixe de ions focalizadospt_BR
dc.title.alternativeMicro and nano (manufacture of electrical contacts) with focused ion beampt_BR
dc.contributor.authorSilva, Marcelo Macchi dapt_BR
dc.contributor.advisorSwart, Jacobus Willibrordus, 1950-pt_BR
dc.contributor.coadvisorMoshkalev, Stanislav, 1952-pt_BR
dc.contributor.institutionUniversidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computaçãopt_BR
dc.contributor.nameofprogramPrograma de Pós-Graduação em Engenharia Elétricapt_BR
dc.subjectFeixes de íons focalizadospt_BR
dc.subject.otherlanguageFocused ion beamen
dc.description.abstractResumo: A nanotecnologia e uma área nova e promissora que englobam muitas disciplinas de ciência e engenharia. Seu rápido crescimento nas ultimas duas décadas é devido ao crescimento simultâneo na fabricação e caracterização de materiais em escala nanométrica. O objetivo deste trabalho é desenvolver uma técnica de processo híbrido para a fabricação de micro e nanocontatos assim como sua caracterização elétrica. Esse processo híbrido combina a fotolitografia seguida da técnica de lift-off e a deposição de platina por FIB. Para determinar a resistividade da platina depositada por FIB (Focuded Ion Beam), foram fabricas estruturas quadradas variando sua espessura de 5 nm - 100 nm e sua área 150 µm 150 µm e 20 µm x 20 µm. Resistores com comprimento de 30 µm variando sua área de secção (50 nm x 50 nm - 1 µm x 1 µm) foram fabricados a fim de uma melhor na caracterização do processo de deposição do filme de Pt assim como sua caracterização elétrica. As medidas elétricas foram realizadas na estação Keythley 4200 SCS, onde foi utilizado o método de quatro pontas nas estruturas quadradas para a caracterização da resistividade. Nos resistores utilizamos a configuração de dois terminais para a caracterização de resistência dos nanocontatospt
dc.description.abstractAbstract: Nanoscale science and technology is a young and burgeoning field that encompasses nearly every discipline of science and engineering, the rapid growth of the field in the past decades has been enable by the sustained advances in the fabrication and characterization of materials. This work presents the hybrid process for fabrication of micro and nanocontacts, this process include the lift - off technique and platinum deposited by FIB. For measurements, two types of test structures were fabricated: (i) 150 x 150 µm and 20 x 20 µm squares with thickness of 5, 10, 30 and 100 nm, and (ii) 30 µm long resistors with variable cross - section (50 nm x 50 nm to 1 µm x 1 µm). The Pt film resistivity has been measured by a four points probe methoden
dc.publisher[s.n.]pt_BR
dc.date.issued2007pt_BR
dc.identifier.citationSILVA, Marcelo Macchi da. Micro e nanofabricação (fabricação de contatos eletricos) por feixe de ions focalizados. 2007. 78 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259243. Acesso em: 24 jun. 2019.pt_BR
dc.description.degreelevelMestradopt_BR
dc.description.degreedisciplineEletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônicapt_BR
dc.description.degreenameMestre em Engenharia Elétricapt_BR
dc.contributor.committeepersonalnamePudenzi, Márcio Alberto Araújopt_BR
dc.contributor.committeepersonalnameDiniz, José Alexandrept_BR
dc.contributor.committeepersonalnameTatsch, Peter Jürgenpt_BR
dc.date.available2019-06-24T14:16:25Z-
dc.date.accessioned2019-06-24T14:16:25Z-
dc.description.provenanceMade available in DSpace on 2019-06-24T14:16:25Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Silva_MarceloMacchida_M.pdf: 6148337 bytes, checksum: d4ca724ac84a5417bdd4995685227913 (MD5) Previous issue date: 2007en
dc.identifier.urihttp://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259243-
Appears in Collections:FEEC - Tese e Dissertação

Files in This Item:
File SizeFormat 
Silva_MarceloMacchida_M.pdf6 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.