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2002Sintese e deposição de oxido de galio por CVDGonçalves, Jose LinoTatsch, Peter Jürgen, 1949-TESE
1993Recuperação de indio a partir ligas de metalicas de InP, InGaAs e InGaAsGonçalves, Jose LinoTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2015Sistema de medida de função trabalho com fonte de elétrons de nanotubos de carbonoHamanaka, Marcos Henrique Mamoru Otsuka, 1973-Tatsch, Peter Jürgen, 1949-TESE DIGITAL
1996Estudo da viabilidade da deposição de tungstenio em um sistema RP/RTCUDOliveira, Clivaldo deTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2009Transistor de efeito de campo (FET) para detecção quimica e bioquimica utilizando dieletrico de porta constituido de camada empilhada SiNx/SiOxNySouza, Jair Fernandes deTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
1992Construção de um sistema de processamento termico rapido (RTP) com lampadas tungstenio-halogenio como fonte radiante de aquecimentoDiniz, José Alexandre, 1964-Tatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
1992Contribuição para estudo de mecanismos de falhas em dispositivos e suas respectivas metodologias de analiseRaeder, Gilson de LimaTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2009Especificação do nucleo de processamento para rede de chaveamento de rajadas opticasMonte, Luis RenatoTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2009Arquitetura e implementação de uma rede em anel de comutação optica de pacotesOliveira, Vinicius Garcia deTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2008Construção e caracterização de um reator indutivo : ICP para corrosão de materiaisBesseler, EdmilsonTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2002Determinação de regras de projeto e de parametros de simulação de um processo nMOS para fabricação de circuitos integradosManera, Leandro Tiago, 1977-Tatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2012Desenvolvimento de materiais e métodos de fabricação de sensores químicos/bioquímicos baseados em silício e nanoestruturas de carbono (ISFET, CNTFET e GraFET) = Development of materials and methods of fabrication of chemical/biochemical sensors based on silicon and carbon nanostructures (ISFET, CNTFET and GraFET)Souza, Jair Fernandes deTatsch, Peter Jürgen, 1949-TESE
2004Caracterização e otimização dos processos de fotolitografia aplicados na fabricação de dispositivos micrometricos MOS e microssistemasFioravante Junior, Nemer PaschoalTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2009Corrosão de filmes de silicio policristalino por plasma para aplicações em dispositivos MEMS e MOS utilizando misturas de gases com cloroNobre, Francisco Diego MartinsTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
1996Formação de filmes finos de oxinitreto de silicio (SiOxNy) por implantação de ions de nitrogenio (N2+) e de oxido nitrico (NO+)Diniz, José Alexandre, 1964-Tatsch, Peter Jürgen, 1949-TESE
1992Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SFG e a sua aplicação no processo de fabricação de "air bridger"Yoshioka, Ricardo ToshinoriTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
1993Estudo e implementação de um teste de aceleração termica para a melhoria da qualidade e confiabilidade de componentes e sistemasLeão, Felippe CarneiroTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
2012Aplicações de corrosão por plasma usando reatores ICP e RIE para tecnologia MEMSNunes, Alcinei MouraTatsch, Peter Jürgen, 1949-TESE
2010Desenvolvimento de sistemas e medida de ruído de alta e baixa frequência em dispositivos semicondutoresManera, Leandro Tiago, 1977-Tatsch, Peter Jürgen, 1949-TESE
2005Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOSNunes, Alcinei MouraTatsch, Peter Jürgen, 1949-DISSERTAÇÃO
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